共聚焦 (Confocal Profiling)
共聚焦輪廓儀可以測量較光滑或非常粗糙的表面高度。借助消除虛焦部分光線的共焦成像系統(tǒng)，可提供高對比度的圖像。籍由表面的垂直掃描，物鏡的焦點掃過表面上的每一個點，以此找出每個像素位置的對應(yīng)高度(即共聚焦圖像)。
共聚焦輪廓儀可以由其光學(xué)組件實現(xiàn)超高的水平解析度，空間采樣可以減小到0.10μm，這是一些重要尺寸測量的理想選擇。高數(shù)值孔徑NA(0.95)和放大倍率(150X和200X)的物鏡可測量斜率超過70°的光滑表面。neox具有*的光效，專有的共聚焦算法可提供納米級的垂直方向重復(fù)性。超長工作距離(SLWD)可測量高寬比較大、形狀較陡的樣品。
干涉(Interferometry)
PSI 模式 (PSI Profiling)
相位差干涉儀 (Phase Shift Interferometers)可以亞納米級的分辨率測量非常光滑與和連續(xù)的表面高度。必須準(zhǔn)確對焦在樣品上，并進(jìn)行多步垂直掃描，步長是波長的的分?jǐn)?shù)。PSI算法借助適當(dāng)?shù)某绦驅(qū)⒈砻嫦辔粓D轉(zhuǎn)換為樣品高度分布圖。
PSI模式可在所有的數(shù)值孔徑(NA)下提供亞納米級的垂直分辨率。放大倍率較小時(2.5X)可以測量較大視場范圍，并具有同樣的垂直分辨率。但是光波相干長度使其測量范圍限制在微米級。PSI算法使neox 得到納米尺度的形態(tài)特征，并以亞納米尺度對超平滑的表面紋理參數(shù)作出評估。
VSI 模式 (VSI Profiling)
白光干涉儀 (White-Light Vertical Scanning Interferometers)可用于測量光滑表面或適度粗糙表面的高度。當(dāng)樣品表面各個點處于*焦點位置時可得到zui大干涉條紋對比度。多步垂直掃描樣品，表面上的每一個點會通過對焦點，通過檢測干涉條紋峰值得到各像素位置的高度。
VSI模式可在所有的數(shù)值孔徑(NA)下提供納米級垂直分辨率。VSI算法使neox在各放大倍率下得到具有相同垂直分辨率的形態(tài)特征。其測量范圍在理論上是無限的，盡管在實踐中其將受限于物鏡實際工作距離。掃描速度和數(shù)據(jù)采集速率可以非常快，當(dāng)然這會導(dǎo)致一定程度垂直分辨率損失。※薄膜測量 (Thin Film)
光譜反射法是薄膜測量的方法之一，因為它準(zhǔn)確、無損、迅速且無需制備樣品。測量時，白光照射到樣品表面，并將在膜層中的不同界面反射，并發(fā)生干涉和疊加效應(yīng)。結(jié)果，反射光強度將顯示出波長變化，這種變化取決于薄膜結(jié)構(gòu)不同層面的厚度和折射率。軟件將測得的真實光譜同模擬光譜進(jìn)行比較擬合，并不斷優(yōu)化厚度值，直到實現(xiàn)*匹配。
