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X射線衍射儀整個系統(tǒng)設計理念

2017-06-07

X射線衍射儀因其光束*的高強度、平行初級光束和二維探測器,而與同步輻射SAXS光束具有相似的設計。使用二維探測器避免了零維和一維探測器在數(shù)據(jù)采集時產(chǎn)生的數(shù)據(jù)誤差并除去了對樣品限制性初始假定的必要。事實上,X射線衍射儀可以分析并澄清樣品的性質,甚至在樣品顆粒不對稱或表現(xiàn)有擇優(yōu)取向的情況下。另外,通過運行Nanography可以得到樣品具有µm量級SAXS分辨率的實空間圖像。

 
X射線衍射儀還配置了高強度的X射線源和新型多層光學配件,可以為樣品提供高強類點入射光束。標配的HI-STAR探測器是一種真正意義上的具有光子計數(shù)能力的無噪實時二維探測器。
 
當今的材料科學家和工程師已經(jīng)可以在納米尺度了解和改進材料的性質。令人興奮的新材料,如設計聚合物與生物陶瓷等正在研制之中,同時液晶、金屬有機物和薄膜涂層等材料的更新和發(fā)展也正因為對它們納米結構的研究和改進而逐步變?yōu)楝F(xiàn)實。
X射線衍射儀是一種用于納米結構材料的可靠而且經(jīng)濟的無損分析方法。
 
X射線衍射儀整個系統(tǒng)的設計都基于簡單易行和故障保護的理念之上。像機械減震器這樣的工具允許在無用戶介入的情況下進行全自動操作。可以根據(jù)不同樣品和具體應用的需要從大量高性能的光學配件中進行選擇,從而達到*的分辨率。
采用新型UMC載物臺和各種不同類型的尤拉環(huán)可以組合成理想的樣品承載系統(tǒng),非常適于進行殘余應力、織構和微區(qū)衍射分析。在用X射線反射法對鍍層或者半導體進行研究時甚至還可以利用的樣品臺進行變溫研究。

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